Wet Process
| Der Ausgangspunkt aller Mikrotechnologien und Mikroelektronischer-Schaltkreise ist die nasschemische Bearbeitung von Substraten aus den verschiedensten Bereichen. Die STANGL Nassprozessanlagen untergliedern sich in verschiedenste Gruppen, welche den Anforderungen der Kunden und den jeweiligen Erfordernissen entsprechend gegliedert sind. |  | |
| Halbautomatische Nassprozesstische Aufgestellt in Reinräumen, bilden nach wie vor die Basis vieler Mikrotechnologien. Die STANGL Nassprozessanlagen bieten durch ihren standardisierten Grundaufbau eine Vielzahl von Vorteilen:
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| Vollautomatische Nassprozessanlagen, welche einen immer höheren Stellenwert mit Zunahme der stetig steigenden Integrationsdichten von Halbleitern mit Strukturbreiten im Sub-µm-Bereich einnehmen, bilden den Grundstock einer hochtechnisierten Serienproduktion. Durch den Einsatz von den vollautomatischen STANGL Nassprozessanlagen ergeben sich eine Vielzahl von Vorteilen:
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| Quartz- und Teilereinigungsanlagen Der sogenannte " Diffusions-, CVD- oder Oxidationsofenprozess " stellt in der Halbleitertechnologie einen essentiellen Prozessschritt in der Halbleiterherstellung dar. Durch die Verwendung der STANGL Quartzrohr- und Teilereinigungsanlagen, welche sowohl in Vertikaler auch als Horizontaler Bauweise lieferbar sind, ergeben sich eine Vielzahl von Vorteilen für den Anwender:
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